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2024-12-11 8:00:00
今年会官网登录入口上海的Ultra Fn A ALD立式炉装备产品包括热原子层沉积（热ALD）和等离子体增强原子层沉积（PEALD）两种设置，，，，， ，，可执行硬掩模层、阻挡层、距离层、侧壁保唬�；； ；；げ恪⒔橹侍畛涞榷嘀直∧こ粱姑�，，，， ，，知足目的工艺应用的种种需求。。。。。。。。这两种设置均接纳六单位系统，，，，， ，，可批量处置惩罚多达100片300mm晶圆。。。。。。。。该装备还包括四个装载端口系统（装载区可控制氧气浓度）、一个集成供气系统（IGS）和一个原位干法洗濯系统，，，，， ，，所有设计均切合SEMI标准。。。。。。。。
今年会官网登录入口上海的Ultra Fn A PEALD装备目今应用沉积氮化硅 (SiN) 薄膜。。。。。。。。该机具接纳双层管设计以及气流平衡手艺，，，，， ，，能够显著提升晶圆内（WIW）和晶圆间（WTW）的匀称性。。。。。。。。通过接纳等离子增强手艺，，，，， ，，该装备还可有用降低器件的热预算。。。。。。。。别的，，，，， ，，通过微调前驱体在前置单位中的存储和释放量，，，，， ，，能够告竣控制器件的要害尺寸和图案轮廓。。。。。。。。
今年会官网登录入口上海的Ultra Fn A碳氮化硅（SiCN）热模式原子层沉积炉管装备已通过海内领先的集成电路制造客户的验证。。。。。。。。该装备能够实现超薄、无逍遥的薄膜沉积，，，，， ，，并且能够准确控制薄膜厚度，，，，， ，，抵达原子级别的沉积精度。。。。。。。。同时，，，，， ，，该装备还能够实现准确的碳掺杂，，，，， ，，从而提升薄膜的硬度和耐侵蚀性。。。。。。。。别的，，，，， ，，该装备还具有内置的干法清洁功效，，，，， ，，能够确保� ？？？？？帕５奈裙绦�。。。。。。。。
